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微波等离子去胶机

设备简介：安动自主研发的单腔去胶设备，采用自动三轴高精度机械手臂、微波等离子源及单片反应腔设计，基于Windows 平台的人机交换界面操作简单，系统架构合理。设备具有占用空间小，产能效率高，耗材成本及运营成本低等优点。适用于半导体前后段各种光刻胶的去除。设备优势：•适用6、8寸晶圆（硅基及化合物半导体）•自适

2022 - 08 - 09